가성비가 우수합니다 - 최고의 성능과 합리적인 가격 !

실리콘 밸리의 Apple, Google, Intel, Micron, NIH, Harvard, Berkeley, HITACHI, BTW, JEOL, 국내 연세대학교기타 여러분께서 선택.사용하시는 최고 성능의 제품입니다 !

SmartClean™ technology - 완벽한 플라즈마 세정을 원하시면 PIE사의 탁상형 전자동 플라즈마 세정기를 선택하세요 !
 
특허출원 : dual plasma strength sensor*  monitors in-situ plasma source and remote plasma source in real-time.

플라즈마 표면

- 클리닝

- 멸균

- 개질

- 에칭

- 에싱 등등 작업 가능

초보자도 쉽게 사용하실 수 있는 전자동 모델로서 20개까지 사용자 프로그램을 저장하여 사용할 수 있습니다 !

 

 

1. 탁상형 전자동 플라즈마 클리너 - 3 모델

2. 원격 플라즈마 클리너 - 3 모델

3. 플라즈마 소스 디자인 - 주문개발.생산

 
PIE Scientific 社는 플라즈마 소스(plasma sources) 개발과 그 응용 분야인 플라즈마 에칭(plasma etching), 샘플 표면 개질(sample surface modification),
오염물 제거(contamination removal), 이온 & 전자 빔(ion and electron beam) 등의 제품을 개발하는 전문성을 갖춘 회사입니다.
PIE는 Plasma(플라즈마),
Ion(이온),
E
lectron(전자)를 의미합니다. 저희 회사의 설립 취지는 반도체, 원자력공학 분야에서 개발된 최신의 플라즈마 기술을 연구 단체에 적용 가능한
플라즈마 장비로 개발.생산하는 것입니다.  또한 플라즈마 클리너, 이온 소스 부품 등을 반도체 장비 제조사, 전자현미경 제조사, 기타 저희 제품을 필요로
하는 제조사에 OEM공급을 하고 있으며, 엔지니어링 디자인과 기술적 역량에 자부심을 갖고 소비자가 100% 만족하실 수 있도록 최선을 다 하고 있습니다.
 

Definition of plasma - 플라즈마 정의 : 제4의 물질 상태 - Plasma, the fourth state of matter
플라즈마(Plasma)는 이온화된 가스 상태의 물질로서, 이온, 전자, 중성 원자/분자 등으로 구성되며, 전체적으로 전하가 중성인 상태를 유지합니다.  전자와
이온들은 충분히 거리가 가까워 디바이 차폐 길이(Debye screening length)라고 불리우는 반지름 내의 많은 인근의 전하를 띈 파티클에 서로 영향을 줄 수
있습니다 .   그 결과,  플라즈마 내의 전하를 띈 파티클들은 외부의 전기자기장에 집합적으로 반응을 합니다.   높은 밀도의 자유로운 이온, 전자들로 플라즈마는
전기적으로 매우 전도성이 높습니다.    플라즈마와 전극 사이의 주변 지역을 제외하고 플라즈마는 같은 양의 양전하와 음전하를 갖습니다.   대량의 플라즈마
내에는 공간 전하(space charge)가 없습니다.

www.plasmacleaner.co.kr

 

전자동 탁상형 플라즈마 클리너 - Fully Automatic TableTop Plasma Cleaners - 

 

 

진공 펌프

 

- PIE 사 플라즈마 클리너에 최적화된 진공 펌프 및 특수 오일 -

Agilant Dry Scroll Pump

 

 

VRI Rotray Vane Pump,  Fomblin PFPE Oil

nXDS10i 100 - 127V, 200 - 240V, 단상 50/60Hz

Edwards Dry Scroll Pump

nXDS6i 100 - 127V, 200 - 240V, 단상 50/60Hz

 

 

 

원격 플라즈마 클리너 - Remote Plasma Cleaners -  

 

 

 

플라즈마 클리너 선택시 중요한 고려 사항 :  Tergeo 특.장점

 

1. Plasma discharge method (플라즈마 방전 방식) 

Tergeo - 2가지 플라즈마 방전 방식 채택 Capacitive coupling for direct mode plasma source, 
     inductive
 coupling for
 remote plasma source. Capacitive coupling with external electrode provide 
     uniform
 plasma across the
whole chamber. Inductive coupling provide efficient plasma discharge 
     where
 uniformity is not a
concern. Unique dual plasma source design: Remote and direct mode in one system.

 

 

2. Uniformity (플라즈마 균일성)

Tergeo - 탁월한 플라즈마 균일성 : Excellent plasma uniformity across the whole chamber
     because of the 
capacitive coupling discharge technology with external rf electrodes.

 

 

3. Gas flow control (가스 유량 컨틀롤)

Tergeo - MFC 가스 입력 컨트롤, 통합 압력 센서 : 외장 가스 혼합기 불필요
     Automatic
 MFC regulated gas input. Integrated pressure sensor.

 

 

4. Operation (플라즈마 클리너 작동방식)

Tergeo - 전자동 공정 프로그램 작동, 공정 컨트롤 기술, 자동 임피던스 매칭, 20개 운영 프로그램 저장 :
     
Fully automatic recipe execution. Process control technology. Automatic impedance matching. Supports 20 recipes.

 

 

5. RF power (RF 파워)

Tergeo - 폭 넓은 RF 파워  범위 : 0-150W 13.56MHz rf power, 연속적 RF 파워 조절, 자동 임피던스 매칭
     0-~75Watt
 or 0-150W 13.56MHz rf power. Continuously adjustable rf power setting in
recipe. 
     Automatic
 impedance 
matching.

 

 

6. Plasma sensor (플라즈마 센서)

Tergeo - 유니크한 플라즈마 센서 개발 (특허 출원) : 전자동 공정 실현에 기여 :
     
Unique plasma sensor. Intelligent plasma ignition technology helps the plasma cleaner

automatically find the best plasma ignition conditions, once the plasma ignites, system

automatically restore the recipe setting.

 

 

(제품 문의)  www.plasmacleaner.co.kr / T) 02-487-8782