Rapid Thermal Process(ing)  /  Rapid Thermal Annealing

다양한 RTP, RTA, RTO(Rapid Thermal Oxidation), RTN(Rapid Thermal Nitridation), RTD(Rapid Thermal Diffusion)
등등의 연구 수행이 가능한 컴팩트한 디자인의 R & D 전문 장비입니다 !
소형 wafer에서 300mm wafer用까지 다양한 RTP/RTA 장비 공급 !

 

(2017.01. 18~20 : 동경 Big Sight에 개최되는 InterNepcon 전시회 출품)

 

한국표준과학연구원(KRISS)에 설치된 RTP 장비

Postech(제4세대 가속기 연구소)에 설치된 RTP 장비

국내 유수의 한화 케미컬 중앙연구소에 RTP장비 설치, 현대자동차, LGD, 동진쎄미켐 등에 RSS 장비 설치

 

 

독일 UniTemp社의 RTP(RTA) 장비 리스트

NO.

모 델

Ramp Up/Down rate
(온도 상승/하강 율)

최대 Substrate 크기(mm)

최고 온도 (°C)

진공도 (hPa)

1

RTP-1200-100

150 K/sec - 200 K/min

100 x 100 x 10(H)

1200

10-3

RTP-1200-100HV

10-6

2

RTP-1000-150

75 K/sec - 200 K/min

150 x 150 x 20(40)

1000

10-3

RTP-1000-150HV

10-6

3

VPO-1000-300

40 K/sec - 200 K/min

300 x 300 x 25(105),
 4pcs of 156 x 156 mm Solar cell

1000

10-3

4

RSO-650-200

75 K/sec - 50 K/min

200 x 170 x 35(H)

650

10-3

RSO-650-200HV

10-6

* 상기 표준 모델 외에 듀얼 챔버(2x챔버 + 1 컨트롤러) 모델, 기타 주문형 제품은 문의하시길 바랍니다.

      본 장비는 연구 목적으로 개발된 모델들로서 연구실의 공간에 적합한 컴팩트한 디자인
      (
555(W) x 460(H) x 520(D) (mm))과 정교한 온도 제어(온도 상승/온도 하강 모두), 다양한 공정/분위기
      가스 사용, 그리고 진공 상태에서의 다양한 연구 과제를 수행할 수 있도록 개발.생산되고
      있습니다.        세계적인 응용기술연구의 리더인 독일 프라운 호퍼 -  
      기초기술연구 기관 막스 프랑크에서도 사용하고 있는  최정상급의 신뢰성을 가진 제품입니다.

 

  디양한 응용 분야 (Application) :

 circle03_orange.gif  Rapid Thermal Processes(RTP)

 circle03_orange.gif  Rapid Thermal Annealing(RTA)

 circle03_orange.gif  Rapid Thermal Oxidation(RTO)

 circle03_orange.gif  Rapid Thermal Nitridation(RTN)

 circle03_orange.gif  LTO(Low Temperature Oxide)

 circle03_orange.gif  Si-Solar Wafer Cells on glass by Si wafer bonding

 circle03_orange.gif  post implanting annealing, thermal oxidation, dopant activation, ion implantation

 circle03_orange.gif  Low k dielectric

 circle03_orange.gif  SiAu, SiAl, SiMo alloying

 circle03_orange.gif  resistor/copper paste firing

 circle03_orange.gif  기타 다양한 연구 목적

 

  제품 특.장점 :

 circle03_orange.gif 빠른 온도 상승(Ramp Up Rate), 빠른 온도 하강(Ramp Down Rate): Active cooling

 circle03_orange.gif 정교한 온도 컨트롤 (SPS PID Control)

circle03_orange.gif 긴 수명의 IR 히터

 circle03_orange.gif 최고 온도: 1000℃,  1200℃

circle03_orange.gif 다양한 Substrate 크기: 300(12인치), 200mm(8인치),150mm(6인치), 100mm(4인치)

 circle03_orange.gif SIMATIC 7 Touch Panel(사용이 편한 터치판넬 방식)

circle03_orange.gif 고온용 석영 유리 챔버(quartz glass chamber), 트레이(quartz tray)

 circle03_orange.gif 오븐 내의 분위기 : 진공 또는 불활성 가스 분위기(최대 4 가지 중 택2: N², O², N²H², Ar)

 circle03_orange.gif 컴팩트한 디자인 : 연구실 내 작은 공간에도 사용 가능함 : 555(W) x 460(H) x 520(D) (mm),......

 circle03_orange.gif 넉넉한 프로그래머블 온도 프로파일 저장 수 : 50 program locations at 50 steps each

 circle03_orange.gif 다양한 웨이퍼 크기에 맞는 석영/흑연 홀더 : 2-12 인치(50-300 mm)

  - 7인치 터치 패널의 윈도우 화면 -

 

  다양한 옵션 사항 및 악세사리 :

  circle03_green.gif RTP-FM(추가 수동 개스 라인, Flow Meter)_

  circle03_green.gif RTP-FM-EL(추가 수동 개스 라인, Flow Meter, Digital Display)

  circle03_green.gif RTP-FM-MFC(추가 개스 라인, Mass Flow Controller)

  circle03_green.gif RTP-GP(Graphite plate, or susceptor)

  circle03_green.gif RTP-MP(Membrane/Diaphragm Pump for vacuum < 10 mbar)

  circle03_green.gif RTP-MP-RVP(Rptray Vane Pump for vacuum up to 5x10-3 mbar)

  circle03_green.gif RTP-MP-TMP(Turbomolecular Pump System for up to 1x10-5 mbar)

  circle03_green.gif RTP-PC-100(Additional Oven Chamber Insert for parallel usage with one process controller unit 100mm)

  circle03_green.gif RTP-PC-150(Additional Oven Chamber Insert for parallel usage with one process controller unit 150mm)

  circle03_green.gif RTP-QC-100(Spare Quartz Chamber for RTP-1200-100)

  circle03_green.gif RTP-QC-150(Spare Quartz Chamber for RTP-1000-150)

  circle03_green.gif RTP-QP(Quartz Plate)

  circle03_green.gif RTP-QX-150(Spare Quartz Holder for RTP-1000-150)

  circle03_green.gif RTP-TC(추가 thermocouple)

  circle03_green.gif RTP-VM(Vacuum Measyrement with data logging - Plug-in chamber)

  circle03_green.gif RTP-WC(Closed loop water cooling system)

 

   주요 소비자  리스트 :

NO.

Customer (소비자)

Country (국가)

1

AIM

GERMANY

2

FRAUNHOFER CSP

GERMANY

3

ANALIT-PRIBOR

RUSSIA

4

JOHNSON MATTHEY

NETHERLANDS

5

SEMICONDUCTOR INSTITUE

LITHUANIA

6

UNIVERSITY OF LUND

SWEDEN

7

UNIVERSITY OF LE MANS

FRANCE

8

UNIVERSITY OF ULM

GERMANY

9

UNIVERSITY OF SAARLAND

GERMANY

10

UNIVERSITY OF KONSTANZ

GERMANY

11

MAX PLANCK INSTITUTE

GERMANY

12

GUARDIAN GLAS / K-SPACE

USA

13

BILKENT UNIVERSITY

TURKEY

14

SIEMENS

GERMANY

15

FREESCALE(MOTOROLA)

GERMANY

16

IBM

USA

17

UNIVERSITY OF MAGDEBURG

GERMANY

18

UNIVERSITY OF DUISBURG

GERMANY

19

UNIVERSITY OF NEUCHATEL

SWITZERLAND

20

UNIVERSITY OF CANBERRA

AUSTRALIA

21

LOTS OF RESEARCH ORGANIZATION IN BRAZIL, CHINA, FRANCE, INDIA, ISRAEL,
ITALY, JAPAN, POLAND, RUSSIA, SPAIN, NETHERLANDS, TURKEY, UK, USA

22

대한민국 : RTP 모델 : 한화 케미컹 중앙연구소, 한국표준과학원(KRISS), Postech
RSS 모델 : 동진쎄미켐, LGD, 현대자동차 의왕연구소
PTP 모델 : 현대자동차

 

  RTP 장비 내부 히팅-쿨링 구조 : 알루미늄 챔버, 수냉식, 흑연 또는 석영 트레이, 석영 트레이, IR 램프,..

 

 

 

  RTP 장비 전면 사진

 

 

 

  RTP 장비 후면 사진

 

 

 

 

 

    SPS SIMATIC 7" Touch Panel 사양으로 업그레이드 되었습니다 !

 

 VPO-1000-300 공정 전 300mm wafer       

 VPO-1000-300 공정 후 300 mm wafer

 

TEL) 02 487-8782              

 

 

 

 

 

     (Applications : 장비 사용 분야 - cleaning-etching-oxide removal)

  • Activation, cleaning and coating of surfaces
  • fast ramp up heating of substrates and wafers
  • fluxless soldering
  • flip chip processing
  • adhesive bonding
  • Solder bump reflow
  • Soldering of power devices
  • small series production and prototype development

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

TEL) 02 487-8782              

 

Rapid thermal anneal (RTA) is a subset of Rapid Thermal Processing. It is a process used in semiconductor device fabrication which consists of heating a single wafer at a time in order to affect its electrical properties. Unique heat treatments are designed for different effects. Wafers can be heated in order to activate dopants, change film-to-film or film-to-wafer substrate interfaces, densify deposited films, change states of grown films, repair damage from ion implantation, move dopants or drive dopants from one film into another or from a film into the wafer substrate.

Rapid Thermal Processing (RTP) refers to a semiconductor manufacturing process which heats silicon wafers to high temperatures (over 1,000 °C) on a timescale of several seconds or less. During cooling, however, wafer temperatures must be brought down slowly to prevent dislocations and wafer breakage due to thermal shock. Such rapid heating rates are often attained by high intensity lamps or lasers. These processes are used for a wide variety of applications in semiconductor manufacturing including dopants activation, thermal oxidation, metal reflow and chemical vapor deposition.